當(dāng)前聚焦:X-FAB與萊布尼茨IHP研究所達(dá)成許可協(xié)議,推出創(chuàng)新的130納米SiGe BiCMOS平臺(tái)
全球公認(rèn)的卓越的模擬/混合信號(hào)晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)與萊布尼茨IHP研究所今日共同宣布,將推出創(chuàng)新的130納米SiGe BiCMOS平臺(tái),進(jìn)一步擴(kuò)大與萊布尼茨高性能微電子研究所(IHP)的長(zhǎng)期合作關(guān)系。作為新協(xié)議的一部分,X-FAB將獲得IHP的尖端SiGe技術(shù)授權(quán),將這一技術(shù)的性能優(yōu)勢(shì)帶給大批量市場(chǎng)的客戶群體。
(相關(guān)資料圖)
130納米SiGe BiCMOS平臺(tái)
新創(chuàng)建的130納米平臺(tái)顯著加強(qiáng)了X-FAB的技術(shù)組合,提供了獨(dú)特的解決方案,達(dá)到滿足下一代通信要求所需的更高性能參數(shù)。受益于這項(xiàng)技術(shù)的領(lǐng)域包括Wi-Fi 6(和未來的Wi-Fi 7)接入點(diǎn),以及下一代蜂窩基礎(chǔ)設(shè)施(特別是5G 毫米波與新興6G標(biāo)準(zhǔn))和車對(duì)車(V2V)通信;該技術(shù)還將在+100GHz雷達(dá)系統(tǒng)的開發(fā)中發(fā)揮關(guān)鍵作用,適用于汽車和消費(fèi)類應(yīng)用。
這項(xiàng)許可協(xié)議延續(xù)了2021年啟動(dòng)的合作,當(dāng)時(shí)X-FAB的銅后道工藝被添加至IHP的SG13S和SG13G2前端技術(shù)中,以提高可支持的帶寬數(shù)據(jù)。關(guān)于這一創(chuàng)新的SiGe平臺(tái),X-FAB將于2022年第四季度開始與選定的早期合作廠商開展原型開發(fā)項(xiàng)目。早期準(zhǔn)入的PDK可實(shí)現(xiàn)原型設(shè)計(jì),而量產(chǎn)將在X-FAB法國(guó)位于巴黎附近的工廠進(jìn)行。
IHP科學(xué)總監(jiān)Gerhard Kahmen教授表示:“將IHP的HBTs整合至X-FAB的RF平臺(tái),將為客戶打造真正與眾不同的SiGe BiCMOS技術(shù),這肯定會(huì)帶來切實(shí)的性能優(yōu)勢(shì)。我們雙方之間的技術(shù)轉(zhuǎn)讓,已成為工業(yè)與研究機(jī)構(gòu)攜手取得卓越成果的完美范例?!?/p>
“X-FAB和IHP在融合我們各自優(yōu)勢(shì)資源開發(fā)前沿半導(dǎo)體解決方案領(lǐng)域擁有杰出的成績(jī);雙方針對(duì)SiGe技術(shù)的最新協(xié)議將這一實(shí)踐帶入令人興奮的全新階段。”X-FAB RF技術(shù)總監(jiān)Greg U"Ren博士表示,“這是雙方進(jìn)一步推進(jìn)SiGe BiCMOS相關(guān)創(chuàng)新的起點(diǎn),涵蓋了工業(yè)自動(dòng)化、消費(fèi)電子和車載等使用案例,將推動(dòng)在未來幾年內(nèi)對(duì)通信領(lǐng)域的重新定義?!?/p>
縮略語:
BiCMOS 雙極互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體
HBT??????? 異質(zhì)結(jié)雙極型晶體管
mmW?????????? 毫米波
PDK?????? 工藝設(shè)計(jì)套件
RF ??????? 射頻
SiGe????????????? 鍺硅
關(guān)于X-FAB:X-FAB是領(lǐng)先的模擬/混合信號(hào)和MEMS晶圓代工集團(tuán),生產(chǎn)用于汽車、工業(yè)、消費(fèi)、醫(yī)療和其它應(yīng)用的硅晶圓。X-FAB采用尺寸范圍從1.0μm至130nm的模塊化CMOS和SOI工藝,及其特色SiC與微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)長(zhǎng)壽命工藝,為全球客戶打造最高的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)、卓越的制造工藝和創(chuàng)新的解決方案。X-FAB的模擬數(shù)字集成電路(混合信號(hào)IC)、傳感器MEMS在德國(guó)、法國(guó)、馬來西亞和美國(guó)的六家生產(chǎn)基地生產(chǎn),并在全球擁有約4,000名員工。www.xfab.com
關(guān)于IHP:IHP作為萊布尼茨聯(lián)合研究所的一部分,是歐洲領(lǐng)先的硅基系統(tǒng)和超高頻電路與技術(shù)(包括新材料)研究中心。該研究所為無線和寬帶通信、安全、醫(yī)療技術(shù)、工業(yè)4.0、汽車工業(yè)及航空航天等應(yīng)用領(lǐng)域開發(fā)創(chuàng)新的解決方案。IHP擁有先進(jìn)的工藝基礎(chǔ)設(shè)施,包括1500平方米的DIN EN ISO 14644-1潔凈室,用于為毫米波、THz和光子學(xué)應(yīng)用制造合格的硅基射頻技術(shù)與系統(tǒng)。通過內(nèi)部設(shè)計(jì)套件的開發(fā),技術(shù)模塊的擴(kuò)展迅速達(dá)到可靠且適用的水平。其旗艦技術(shù)包括世界最快、穩(wěn)定和合格的130納米SiGe BiCMOS工藝線(采用下一代高性能SiGe HBT技術(shù)的SG13G2和最新SG13G3)。IHP擁有約360名員工。www.ihp-microelectronics.com
關(guān)鍵詞: 解決方案 基礎(chǔ)設(shè)施 許可協(xié)議 異質(zhì)結(jié)雙極型晶體 生產(chǎn)基地
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